中国首套高端光刻机曝光系统通过验收测试

2017-10-25 17:10分享至

10月25日，科技部原副部长曹健林在“第十五届中国国际半导体博览会暨高峰论坛”上透露，中国首套高端光刻机曝光系统，于本月在整机环境下通过验收测试。曹健林表示，高端光刻机曝光光学系统的产业化准备已经就绪，长春国科精密光学技术有限公司早于2014年8月成立，该公司对超精密制造设备总投资约2亿元，扩产后将达5亿元。（证券时报网）

为提升iPhone X产量苹果降低了Face ID零部件技术要求

据彭博社报道，为了让供应链更快地测试点阵投射器模组(dot projector)，加快iPhone X生产，苹果公司为供应商降低了Face ID零部件的精度要求。彭博社并未详细报道苹果如何改变了这些规格要求，也不清楚这会对Face ID的可靠性和速度产生何种影响。此前报道称，在iPhone X于11月3日上市时，苹果的供货量大约为300万部。今年iPhone X的总出货量据称已经削减至2000万部，只有苹果最初预期的一半。（凤凰科技）

2017-10-25

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